NANO 15臭氧发生器用ALD（原子层沉积）系统
ALD（原子层沉积）系统中使用臭氧发生器的配置通常是为了生成高纯度的臭氧气体，用于特定的化学反应，特别是在需要氧源的沉积过程中。以下是一个典型的ALD系统中臭氧发生器的配置介绍：
1. NANO15臭氧发生器
板式臭氧发生器：通过电晕放电过程将氧气转换为臭氧，适用于需要大量臭氧的场合。臭氧浓度可达10%。体积小，适合集成在机器内。
2. 配置组件
臭氧发生器主体：负责生成臭氧的核心设备。
氧气源：通常使用高纯度氧气作为原料（纯度通常为99.99%以上）。
冷却系统：用于冷却臭氧发生器，防止设备过热。
臭氧浓度监测器：实时监测生成的臭氧浓度，确保其符合ALD系统的要求。
流量控制器：控制进入ALD系统的臭氧流量，保持稳定的反应环境。
3. 连接与集成
气体管道：将生成的臭氧从发生器输送到ALD反应室。
真空系统：确保ALD反应室内的压力环境适合臭氧的引入。
控制系统：集成在ALD系统的整体控制系统中，协调臭氧发生器与其他设备的工作。
通过上述配置，ALD系统能够高效、安全地利用臭氧进行沉积过程，确保生成的高质量薄膜满足特定应用的需求。
