原子层沉积(ALD)工艺用臭氧发生器推荐
在原子层沉积(ALD)工艺中,臭氧作为关键工艺气体,直接影响薄膜沉积的质量与效率。如何选择高性能臭氧发生器?北京同林科技为您解析三款产品。”
第一款是Apex H32高浓度臭氧发生器,臭氧浓度可超200毫克每升,触屏操作,智能控温耐高压,非常适合ALD企业、半导体行业、高浓度臭氧需求的科研实验使用。
第二款是,Micro 16,紧凑型臭氧发生器,臭氧浓度超过150毫克每升,模块化结构体积小,静音设计,触屏操作,智能控温,风冷,非常适合ALD设备制造商配套、纳米材料合成实验室、光伏/显示面板中试线等行业使用。价格相对来说比较适中。
第三款是,3S-T10经济型科研臭氧发生器,这款臭氧化发生器的浓度可达140毫克每升、风冷、浓度可调,可连续长时间工作,非常适合科研使用,高校材料科学课题组、薄膜器件工艺开发使用,性价比高。